Use Case — Semiconductor
半導体・精密産業
ナノスケールの洗浄力を、製造現場へ。
Introduction
半導体をはじめとする精密製造の現場では、ナノスケールの微粒子ひとつが歩留まりを左右します。
ウルトラファインバブルは、その微細さゆえに従来の水では届かない領域まで入り込み、汚れを浮かせて除去する新しい洗浄のかたちとして注目されています。
Challenges
現場が抱える、水回りの課題。
ISSUE / 01
ナノスケールの微粒子汚染
サブミクロン粒子の付着による歩留まりへの影響が、常に課題となります。
ISSUE / 02
薬液・超純水のコスト
洗浄薬液・超純水の使用量と、廃液処理にかかる負担が大きくなっています。
ISSUE / 03
微細構造の洗浄ムラ
複雑形状・微細パターンでは、従来の洗浄では届かない領域があります。
ISSUE / 04
環境負荷と排水処理
薬液依存の工程は、環境負荷と排水処理コストの両面で見直しが求められています。
Mechanism
マイクロ・ナノバブルが、
どう効くのか。
01
微細な隙間へ到達
1マイクロメートル未満の泡が、パターンの狭い隙間まで入り込みます。
02
非接触の粒子剥離
マイナス帯電した泡が微粒子に吸着し、非接触に浮かせて除去します。
03
薬液に頼らない洗浄
純水ベースでも物理的に汚れへアプローチし、薬液依存を下げる運用が可能です。
Expected Outcomes
期待できる効果。
向上
微細構造の洗浄性
従来届かない領域への洗浄が期待できます
削減
薬液・純水の使用量
使用量削減が期待できます
低減
環境負荷
排水処理負担の低減が期待できます
安定
清浄度
工程の清浄度安定化に寄与
非接触
接触
微細パターンにも安全な洗浄
R&D
共同開発
顧客工程に合わせた最適化
Scenes
活用シーン
01
ウェハ・精密部品の洗浄
02
装置・配管の洗浄
03
超純水プロセス
04
研究・実証ライン
Process
検討時のポイント
STEP / 01
工程・清浄度要件の確認
既存設備、水質・流量条件、要求清浄度を確認します。
STEP / 02
組み込み設計
既存設備への組み込み可否を検討し、最適な導入形態を設計します。
STEP / 03
実証と展開
小規模ラインでの実証を経て、本格展開を進めます。
Explore
他のユースケース
※具体的な導入事例は順次公開してまいります。